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带循环过滤系统超声波清洗机性能特点和影响因素

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  带循环过滤系统超声波清洗机主要性能及特点有哪些?

  1.清洗机整体全不锈钢结构美观耐用,操作简单方便插上电源即可使用单槽及多槽。

  2.清洗时间60分钟内可随意调节,达到清洗标准。

  3.清洗机可采用28KHZ、40KHz超声波,有效降低噪音并提高清洗效率。

  4.真空清洗机设有独立排水球阀手动排液。

  5.加热功能:配有恒温温控器,达到设计温度后自动停止加热。

  6.有单独过滤循环系统采用杭州“南方”牌水泵,单或双桶过滤器。能有效过滤清洗槽里面的清洗液,使过脏的清洗液循环使用。

  7.使用溶剂采用环保型水基溶剂,无污染清洗设备设计制作美观大方方便维修。

  8.电控箱特点:采用新式单频电路具有:功率无极可调、单频扫频追踪、数显频率显示、数显功率显示、数显电流显示及数显定时清洗等功能。

  现在的超声波清洗机发展得越来越好了,超声波清洗的主要机理是超声波空化作用,超声波空化的强弱与声学参数、清洗液的物理化学性质及环境条件有关,要获得良好的清洗效果必须选择适当的声学参数和清洗液。但是也会有一些会影响超声波清洗效果,那么到底是什么因素呢?

  第一. 超声波声强或声压的选择

  第二. 频率的选择

  第三. 清洗液的物理化学性质对清洗效果的影响

  第四. 影响超声清洗效果的其它因素

  第五. 驻波的影响

  清洗槽是有限空间,超声波由声源向液面传播时。在液体和气体的交界面会反射回来而形成驻波,驻波的特征是在液体空间的某些地方声压最小,而在另外一些地方声压最大.这样会造成清洗不均匀的现象。要减少驻波的影响,有时清洗槽特意做成不规则的形状以避免驻波的形成.现在超声波电源方面采取扫频的工方式,使声压最小处不固定在一个地方而是不断地移动.以达到较均匀的清洗。

  超声波清洗机厂家特别为大家总结了下面这些知识,关于超声波清洗在硅片行业的应用。

  半导体材料的制作过程中,每一个过程包括清洁,清洗直接影响到下一道工序,甚至会影响设备的成品率和可靠性。

  晶片生产的每一个过程的潜在的污染可能会导致产生缺陷和设备故障。因此,超声波清洗机设备的小编表示,硅片的清洗已经引起专业人士的关注。许多制造商都用手洗,这种方法人为的因素,一方面,容易碎裂,经济衰退,另一方面手洗的晶圆表面清洁度,污染严重,下道工序投掷腐蚀合格率较低。硅片清洗技术已引起人们的重视,找到一个简单而有效的清洗方法是当务之急。专业介绍了一种超声波清洗技术,超声波清洗机设备的小编表示,晶圆清洗效果显着,是一种值得推广的晶圆清洗技术。

  杭州萧山余祝超声波设备厂是一家从事专业超声波清洗器研制、开发、生产为一体的企业,超声清洗技术是现代工厂工业零件表面清洗的新技术,在未来的企业生产中将取代传统的人工清洗、冲洗和煤油清洗,已广泛用于电镀、离子镀膜、汔车零件等行业,超声波清洗机厂家咨询电话:0571-83513235。

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